來源 :賽山粉體 作者 : 賽山
設(shè)備概述
同時(shí)考慮清潔便利性,處理量,成品粉碎粒徑,針對GMP工廠的平衡設(shè)計(jì)。優(yōu)化后設(shè)備更小的設(shè)備尺寸,便捷的設(shè)備拆裝。新的氣流粉碎主機(jī)結(jié)構(gòu),無清潔死角,提升了粉碎性能。 均勻喂料通過均勻進(jìn)料器向氣流粉碎主機(jī)給料,并控制進(jìn)料速度粉碎由連接在給料器上的文丘管吸入粉碎主機(jī)內(nèi)部,粉碎腔壓力氣體和物料同時(shí)進(jìn)入粉碎機(jī),物料被高速氣流粉碎帶動,發(fā)生高速碰撞,產(chǎn)生粉碎效果。壓縮空氣伴隨成品進(jìn)入旋風(fēng)分離器,氣固分離氣粉混和物高速進(jìn)入上部圓筒體,粉料因質(zhì)量大向下旋轉(zhuǎn)運(yùn)動至下出口質(zhì)量小向上旋出,氣固實(shí)現(xiàn)分離尾氣過濾進(jìn)入的氣體中夾帶少量的粉塵被過濾筒(袋)阻隔。含塵氣體被過濾成潔凈氣體比較后從風(fēng)機(jī)出口排出,氣固徹底分離。 設(shè)備推薦使用場景
化學(xué)原料藥生產(chǎn) 吸入制劑的輔料微粉 粉類化妝品原料 新材料,高分子材料生產(chǎn) 設(shè)備基本參數(shù)
處理量:8-50公斤/小時(shí) 壓縮空氣耗量:6-7立方米/分鐘 壓縮空氣壓力:0.6-0.8Mpa |